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  • 靶材服务于溅镀薄膜,单一的靶材研究毫无应用意义。

    靶材研究和薄膜研究结合起来,研究靶材成份、性能与溅射薄膜性能间的关系。

    圆柱形、平面式磁控溅射靶在靶面上形成两组(四条)对称的封闭的环形辉光带。

    随着靶材的消耗,与其它形式的磁控溅射靶相比,圆柱形、平面式磁控溅射靶在保留了矩形平面靶镀膜均匀性好的优点的同时。

    可通过以下两条途径提高靶材的利用率。

    热处理:金属坯锭在经过大幅度的塑形变形后,根据不同的材料的特性选择热处理工艺。

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